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日本理学ZSX Primus 400连续波长色散X射线荧光光谱仪（WDXRF） ，用于大样品

Rigaku 奇特的 ZSX Primus 400 连续波长色散 X 射线荧光 (WDXRF) 光谱仪专为处理很是大或重的样品而设计。该系统可接受直径最大为 400 毫米、厚度为 50 毫米和质量为 30 千克的样品 ，很是适合剖析溅射靶材、磁盘 ，或用于多层薄膜计量或大型样品的元素剖析。 优点

带有定制样品适配器系统的 XRF,适应特定样品剖析需求的多功效性 ，可使用可选适配器插件适应种种样品尺寸和形状。凭借可变丈量点（直径 30 毫米至 0.5 毫米 ，具有 5 步自动选择）和具有多点丈量的映射功效以检查样品均匀性。

具有可用相机和特殊照明的 XRF,可选的实时摄像头允许在软件中检察剖析区域。

仍保存了古板仪器的所有剖析能力。


宁静性

接纳上照射设计,样品室可简单移出 ，再不必担心污染光路 ，清理麻烦和增加清理时间等问题。


■ 应用领域

固体、液体、粉末、合金和薄膜的元素剖析:

溅射靶材组成.

隔离膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。

高 k 和铁电介质薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx

金属薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

电极膜：掺杂多晶硅（掺杂剂：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。

其他掺杂薄膜（As、P）、困惰性气体（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）

铁电薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe

焊料凸点身分：SnAg、SnAgCuNi

MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和身分

SAW器件工艺：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（压电薄膜）的厚度和身分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（电极膜）


■ 技术参数

大样天职析：最大 400 毫米（直径） ，最大 50 毫米（厚度） ，高达 30 千克（质量）

样品适配器系统 ，适用于种种样本量

丈量点：30 毫米至 0.5 毫米直径 ，5步自动选择

映射能力 ，允许多点丈量

样品视图相机（可选）

剖析规模：Be - U

元素规模：ppm 至 %

厚度规模：sub ? 至 mm

衍射滋扰抑制（可选）：单晶衬底的准确结果

切合行业标准：SEMI、CE标记

占地面积小 ，以前型号的 50% 占地面积


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